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標(biāo)準(zhǔn)試片

返回列表 來(lái)源： 磁粉探傷機(jī)_專用磁粉探傷機(jī)_熒光磁粉探傷機(jī)_熒光滲透檢測(cè)線_江蘇偉力無(wú)損檢測(cè)設(shè)備制造有限公司 發(fā)布日期： 2020.03.30
?磁粉檢測(cè)標(biāo)準(zhǔn)試片又稱磁粉探傷靈敏度試片，最初是由日本提出來(lái)的，目前在我國(guó)、美國(guó)和日本都有采用。
?    在純鐵薄片(基片)上單面刻槽作為人工缺陷，刻槽的形式各國(guó)不盡相同，多數(shù)是在試片深度方向刻U形或近U形，平面方向?yàn)閳A、十字線或直線等。
?    我國(guó)使用的標(biāo)準(zhǔn)試片，根據(jù)刻槽的形狀、基片的大小和厚度，分為A、C、D型等多種。